半導體紫外光固化機

在半導體行業，常用紫外固化機對晶片進行曝光。這種半導體紫外光固化機至少是由用來承載晶片的曝光鏡頭以及液體循環裝置構成，其中液體循環裝置在曝光期間為曝光鏡頭與晶片之間供應液體。其特征在于，半導體UVLED曝光前，UVLED利用至少一對準光源對承載臺進行一對準操作，其中對準光源具有一特定波長，使液體揮發時對對準光源的影響降至最低，以防止液體影響前述對準操作。

原理及特點

半導體紫外光固化機的原理以及特點：

1、省電節能，減低成本，半導體紫外光曝光機的LED發光達到某種亮度時所消耗的能量只有15瓦左右，而傳統的燈達到同樣亮度要消耗1500瓦的能量，即使與UV鹵素燈相比，也可節省80%的能源。

2、紫外光固化機的發光不是紅外線加熱，發放的熱力較低，因而不會影響那些容易受熱而變形的介質(像泡沫塑料板、箔膜、PVC等)在印刷過程中的傳送。這樣，介質的應用范圍就更加廣泛了。 　　

3、反應時間快，紫外光固化機不需要預熱，可以開機后立即印刷，生產力得以提高。 　　

4、安全性高，穩定性高，UV噴墨印刷機的印刷質量跟UV干燥固化的過程有莫大關系，半導體紫外光固化機的穩定性使得輸出的能量是可預見的、穩定的，因此印刷效果同樣是可預見的、穩定的。

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